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真空镀膜

真空镀膜

真空镀膜

1、电阻蒸发镀
2、电子枪蒸发镀
3、二级溅射
4、二级磁控溅射
5、三级磁控溅射
6、中频双脉冲磁控溅射
7、阴极弧
8、空心阴极
9、PECVD等离子体化学气相沉积

1、电阻蒸发镀:在真空条件下,通电加热或电子枪加热形式把被镀材料气化,沉积在被镀物体上叫蒸镀。
2、电子枪蒸发镀:在真空条件下,利用加速电子轰击镀膜材料加热蒸发,并形成膜。这也是蒸发镀的一种。特点为:电子枪发出电子束具有极高能量密度,加热温度可达3000-6000℃,可以蒸发难溶金属或化合物,目前广泛应用在光学镀膜上。
3、二级溅射:在真空条件下,将被镀材料物体(物体)带高负电压,室体带正电压形成回路。二级放电将被镀物体溅射下来附着在被镀物体上形成二级溅射。
4、二级磁控溅射:在二级溅射基础上,把阴极加上磁场。磁场与二级电场形成正交电磁场。在放电过程中电子在靶表面做螺旋管滚动,增强等离子体密度从而提高溅射速率。因此磁控溅射的溅射速率远高于二级溅射。
5、三级磁控溅射:是在磁控溅射基础上再另一对电极形成三级溅射。三级溅射比磁控溅射离化率更高,同时对膜层附着力,镀膜质量都有所提高。
6、中频双脉冲磁控溅射:是在磁控溅射基础上将直流电源改为中频双脉冲电源,同时1台电源带1对磁控靶,两靶之间形成回路,这种方法溅射叫中频双脉冲磁控溅射镀膜,它与磁控溅射相比有很多优越性能,尤其是在镀反应膜、氧化膜等都具有不易中毒;靶可以长期稳定工作。现在磁控溅射选用较多方法是中频双脉冲磁控溅射。装饰涂层,灯具,工具以及汽车行业等方面都有广泛的应用。
7、阴极弧:阴极弧(多弧)目前广为人们使用。工作原理是在真空条件下,通过阴极产生弧光放电,将被镀物蒸发+溅射镀到工件表面上(基片上),这种镀膜离化率高,被称为离子镀的一种。现在市面上普遍使用于多弧靶头,一般直径∅60-∅100。新型有∅160,还有矩形、柱状阴极弧等广为使用。
8、空心阴极:在真空条件下,用空心阴极等离子电子束作为蒸发源,定向打在坩埚中,在坩埚中放入镀膜材料。材料被蒸发镀在被镀物体上,这种镀膜的过程中带电粒子较多。因此多用来镀制工具、模具、道具等。
9、等离子体化学气相沉积(PECVD)
在真空条件下通过附加电场产生等离子体,这时在通入反应气体、液体等。在真空室中电离后附着在被镀物体表面的过程。目前PECVD用法越来越广,用它来取代CVD。因为PECVD不用CVD那么高温度就可以达到更好膜层,因此越来越被广大用户喜欢。

 

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