真空镀膜
1、电阻蒸发镀
2、电子枪蒸发镀
3、二级溅射
4、二级磁控溅射
5、三级磁控溅射
6、中频双脉冲磁控溅射
7、阴极弧
8、空心阴极
9、PECVD等离子体化学气相沉积
1、电阻蒸发镀：在真空条件下，通电加热或电子枪加热形式把被镀材料气化，沉积在被镀物体上叫蒸镀。
2、电子枪蒸发镀：在真空条件下，利用加速电子轰击镀膜材料加热蒸发，并形成膜。这也是蒸发镀的一种。特点为：电子枪发出电子束具有极高能量密度，加热温度可达3000-6000℃，可以蒸发难溶金属或化合物，目前广泛应用在光学镀膜上。
3、二级溅射：在真空条件下，将被镀材料物体（物体）带高负电压，室体带正电压形成回路。二级放电将被镀物体溅射下来附着在被镀物体上形成二级溅射。
4、二级磁控溅射：在二级溅射基础上，把阴极加上磁场。磁场与二级电场形成正交电磁场。在放电过程中电子在靶表面做螺旋管滚动，增强等离子体密度从而提高溅射速率。因此磁控溅射的溅射速率远高于二级溅射。
5、三级磁控溅射：是在磁控溅射基础上再另一对电极形成三级溅射。三级溅射比磁控溅射离化率更高，同时对膜层附着力，镀膜质量都有所提高。
6、中频双脉冲磁控溅射：是在磁控溅射基础上将直流电源改为中频双脉冲电源，同时1台电源带1对磁控靶，两靶之间形成回路，这种方法溅射叫中频双脉冲磁控溅射镀膜，它与磁控溅射相比有很多优越性能，尤其是在镀反应膜、氧化膜等都具有不易中毒；靶可以长期稳定工作。现在磁控溅射选用较多方法是中频双脉冲磁控溅射。装饰涂层，灯具，工具以及汽车行业等方面都有广泛的应用。
7、阴极弧：阴极弧（多弧）目前广为人们使用。工作原理是在真空条件下，通过阴极产生弧光放电，将被镀物蒸发+溅射镀到工件表面上（基片上），这种镀膜离化率高，被称为离子镀的一种。现在市面上普遍使用于多弧靶头，一般直径∅60-∅100。新型有∅160，还有矩形、柱状阴极弧等广为使用。
8、空心阴极：在真空条件下，用空心阴极等离子电子束作为蒸发源，定向打在坩埚中，在坩埚中放入镀膜材料。材料被蒸发镀在被镀物体上，这种镀膜的过程中带电粒子较多。因此多用来镀制工具、模具、道具等。
9、等离子体化学气相沉积（PECVD）
在真空条件下通过附加电场产生等离子体，这时在通入反应气体、液体等。在真空室中电离后附着在被镀物体表面的过程。目前PECVD用法越来越广，用它来取代CVD。因为PECVD不用CVD那么高温度就可以达到更好膜层，因此越来越被广大用户喜欢。
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